91% 純度(L 型):干磨專屬配方,適配建材、普通化工、礦物加工等非高純場景,性價比出眾,雜質控制滿足行業標準。
92% 純度(SW/SD 型):干濕雙適配,SW 專注濕磨大球場景,SD 專攻干磨連續作業,適配大型磨機粗磨與中磨。
93% 純度(M 型):標準濕磨主力,通用型高耐磨配方,覆蓋陶瓷、涂料、顏料等主流濕磨場景,綜合性能均衡。
99.5% 純度(AL9 型):高純度精密級,極低金屬雜質析出,適配電子陶瓷、鋰電池材料、顏料等潔凈研磨場景。
99.9% 純度(AHP 型):超高純半導體級,雜質含量趨近于零,耐酸堿、低放射性,專為電子、半導體、醫藥、納米材料等極1致純度場景打造。
密度 3.61g/cm3,維氏硬度 HV5≈1250,真圓度高、內部致密,磨耗極低、研磨效率穩定,適配各類濕法砂磨機、球磨機,是陶瓷釉料、電子漿料、化工粉體的濕磨介質。
SW 型(92% 純度)—— 大球濕磨專用
規格 φ20-50mm,專為大型濕法球磨機設計,高抗沖擊、耐磨損,適配陶瓷坯料、非金屬礦、涂料等大產能濕磨場景,穩定耐用、降低換球頻次。
SD 型(92% 純度)—— 干磨連續高效
干磨專屬優化配方,密度 3.59g/cm3,抗靜電、低粉塵污染,適配連續式干磨設備,在建材、礦物、化工原料干磨中,兼顧效率與低磨耗。
L 型(91% 純度)—— 經濟干磨
性價比之選,密度 3.50g/cm3,莫氏硬度 9 級,專為干磨優化,孔隙率低于 1%,減少介質脫落雜質,適配普通化工、建材、礦物干磨,成本更低、性能可靠。
AL9 型(99.5% 純度)—— 高精密干濕通用
密度 3.80g/cm3,高純度 α-Al?O?晶相,耐酸堿腐蝕、無金屬離子溶出,規格 φ0.2-20mm,覆蓋超細研磨到中磨,適配鋰電池正負極、電子陶瓷、熒光粉等場景。
AHP 型(99.9% 純度)—— 超高純精密微磨
密度 3.90g/cm3,維氏硬度 HV5≈1750,純度≥99.9%,雜質總量控制在 ppm 級,規格 φ0.5-1mm,專為半導體拋光液、MLCC 介質、醫藥原料藥、納米材料等亞微米級精細研磨打造,保障極1致純凈。
微球規格(φ0.2-10mm):AL9、AHP、M 型為主,適配納米砂磨機、行星磨,用于電子、醫藥、納米材料超細粉碎與分散。
中球規格(φ10-20mm):M、AL9 型為主,適配中型濕法磨機,用于陶瓷、涂料、化工粉體中細磨。
大球規格(φ20-50mm):SW、SD、L 型為主,適配大型干濕磨機,用于礦物、建材、陶瓷坯料重載研磨。
極1致純凈,0污染風險:高純度配方 + 精密燒結,杜絕鐵、硅、鈣等雜質析出,滿足電子、醫藥、半導體等行業 GMP 與超高純要求。
超硬耐磨,壽命更長:莫氏硬度 9 級,高密度結構,磨耗率低至 0.005%/24h,使用壽命是普通介質的 3-5 倍,減少換球成本與停機時間。
高效研磨,降本增效:高密度提升沖擊動能,研磨效率提升 40%-60%;真圓度高、顆粒均勻,研磨細度更穩定,降低能耗與綜合成本。
耐蝕耐高溫,適配嚴苛環境:耐酸堿(pH1-14)、耐高溫>1000℃,適配化工、電鍍、高溫粉體等腐蝕性、高溫研磨場景。
電子半導體:MLCC、半導體硅片拋光液、電子漿料、陶瓷電容,保障高絕緣性與可靠性。
新能源鋰電:正負極材料、固態電解質,杜絕金屬污染,提升電池安全性與循環壽命。
精細陶瓷:氧化鋯、氮化硅、PTC/NTC 熱敏電阻,提升致密度與電學性能。
醫藥食品:藥用粉體、中藥提取物、食品添加劑,符合 GMP 標準,安全無雜質。
涂料顏料:高1端無機顏料、納米涂料,避免色差,提升色澤穩定性。
化工建材:礦物粉體、水泥添加劑、特種玻璃,高效干磨 / 濕磨,穩定低耗。
濕磨通用:優先選M 型(93%),性價比與性能均衡。
干磨場景:經濟型選L 型(91%),高效連續選SD 型(92%)。
高精密潔凈:選AL9 型(99.5%),適配鋰電、電子陶瓷。
大磨機重載:選SW/SD/L 型(φ20-50mm)。
超細納米研磨:選AL9/AHP 型(φ0.2-1mm)。